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浙江國檢檢測

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分享:工作參數(shù)對紙張類不導電試樣掃描電鏡圖像質(zhì)量的影響

2025-05-28 13:13:14 

掃描電鏡(SEM)是一種利用高能聚焦電子束掃描試樣表面,通過電子束與試樣間的相互作用激發(fā)各種物理信息,并對這些信息調(diào)制成像,從而表征試樣的儀器。利用激發(fā)出的二次電子及背散射電子成像可得到試樣形貌信息。由于二次電子僅來自試樣表層10 nm區(qū)域,因此其對試樣表面狀態(tài)非常敏感,能夠有效展示試樣表面的微觀形貌[1-2]。而背散射電子能量高,其從試樣更深處逸出表面,對原子序數(shù)較為敏感,不僅能反映試樣的形貌特征,也能顯示原子序數(shù)襯度,從而分析試樣的成分[3-4]。

紙張的品質(zhì)與其微觀結構是密切相關的,如造紙的纖維形態(tài)、紙張空間結構、紙張孔隙等因素直接影響紙張的性能[5-7]。為了提高紙張性能,同時降低生產(chǎn)成本,研究人員采用SEM表征紙張的微觀結構。但紙張試樣的導電性差,拍攝的圖像會出現(xiàn)明暗條紋或畸變等問題[8]。筆者通過調(diào)節(jié)加速電壓、束流、工作距離、噴鍍金屬膜時間、工作模式等參數(shù),對比不同參數(shù)對紙張試樣SEM形貌的影響,研究結果可為同類不導電試樣的表征提供參考。

裁剪尺寸(長度×寬度)為3 mm×3 mm的紙張試樣,利用碳導電膠將其黏貼固定在試樣臺表面。利用SEM測試試樣,試樣室最高真空度為9.9×10-3Pa。設置SEM加速電壓分別為5,10,15,20 kV,束流為30,100,300,600 pA,工作距離為5,10,20,30 mm,工作模式為高真空和低真空。使用離子濺射儀在紙張表面噴鍍一層金屬Pt的薄膜,與單純的紙張形貌做對比,噴鍍電流為8 mA,噴鍍時間分別為100 s和300 s。

加速電壓越大,電子束入射到試樣的深度越深,能激發(fā)出的二次電子越多,探頭收集到的信號越強,圖像越清晰,但表面細節(jié)較差[9],因此為獲取高質(zhì)量的SEM圖像,需要選擇合適的加速電壓。

圖1為不同加速電壓下紙張試樣的SEM形貌。由圖1可知:加速電壓為5 kV時,圖像存在“磨平”現(xiàn)象,立體感差,清晰度極低,圖像中出現(xiàn)局部異常暗區(qū),因為試樣表面局部積累過多電荷,產(chǎn)生了靜電場,干擾了電子束和二次電子的發(fā)射效率,從而影響了成像質(zhì)量,即產(chǎn)生荷電效應[10];將電壓增大到10 kV,圖像略變清晰,但仍存在明暗異常區(qū)域,影響了圖像質(zhì)量;進一步增大電壓到15 kV,圖像上可清晰看到纖維形態(tài)與填料的分布情況,甚至可觀察到纖維表面細節(jié),且圖像質(zhì)量受荷電效應的影響較?。焕^續(xù)增大加速電壓到20 kV,纖維趨于“光滑”,表面細節(jié)較差,圖像中明暗異常區(qū)域的存在嚴重影響了對纖維形態(tài)及填料分布的觀察,表明試樣表面仍然存在過多的電荷,影響了二次電子的成像效果。

圖 1不同加速電壓下紙張試樣的SEM形貌

對于紙張類導電性差的試樣,設置較低加速電壓時,圖像存在“磨平”現(xiàn)象,但若加速電壓太高,圖像會丟失細節(jié),受荷電效應影響嚴重,不利于觀察試樣的形貌[11-12]。通過上述分析,將加速電壓設置為15 kV,測試時可獲得清晰度高、表面細節(jié)清楚的紙張SEM形貌。

束流越大,電子束光斑越大,圖像分辨率越低,但探頭接收到的二次電子信號越強,圖像信噪比越大[13]。因此,在實際測試時,在選擇適當束流的同時需要兼顧圖像的分辨率和信噪比。

設置加速電壓為15 kV,不同束流下紙張試樣的SEM形貌如圖2所示。由圖2可知:束流為30 pA時,圖像中存在大片異常暗區(qū),且立體感不佳,清晰度差,不能有效分辨纖維與填料;將束流增大到100 pA后,圖像亮度增大,立體感增強,纖維表面細節(jié)及填料能夠被清晰分辨,有效減弱了荷電效應的影響;將束流進一步增大至300,600 pA,圖像受荷電效應的影響較大,圖像中出現(xiàn)更多明暗異常區(qū)域,區(qū)域面積隨著束流的增大而增加,雖然圖像清晰度更好,但紙張表面形貌的細節(jié)丟失。

圖 2不同束流下紙張試樣的SEM形貌

通過以上分析可知,當束流過小時,信號差,圖像清晰度差;束流較大時,圖像信噪比增大,但受荷電效應的影響變大。因此,測試時選用100 pA的束流,能得到質(zhì)量較好的紙張SEM形貌。

工作距離是指物鏡與試樣間的距離,與SEM圖像質(zhì)量密切相關。減小工作距離可提高圖像分辨率,適合小尺寸試樣的拍攝;對于表面凹凸不平的試樣,通常選擇較大的工作距離,以增大景深[14]

設置加速電壓為15 kV,束流為100 pA,不同工作距離下紙張試樣的SEM形貌如圖3所示。由圖3可知:工作距離較小時,圖像是平面的,缺乏立體感,受荷電效應影響較大;增大工作距離至20 mm時,圖像亮度增大,立體感增強,從圖像中能夠清晰分辨纖維形態(tài)與填料的分布情況;增大工作距離至30 mm后,圖像亮度和清晰度均下降。

圖 3不同工作距離下紙張試樣的SEM形貌

根據(jù)上述分析可知,對紙張類試樣進行SEM低倍分析時,可將工作距離適當增大(設置為20 mm),這樣得到的SEM圖像立體感強、富有美感、受荷電效應影響較小。

對于導電性不佳的試樣,可以向試樣表面噴鍍一層金屬薄膜,以增強試樣的導電性。但對于小尺寸及表面起伏不大的試樣,噴鍍金屬膜前后,試樣的SEM形貌可能會有所差異[15]。

設置加速電壓為15 kV,束流為100 pA,工作距離為20 mm,不同金屬膜噴鍍時間下紙張試樣的SEM形貌如圖4所示。由圖4可知:未噴鍍金屬膜試樣的SEM圖像立體感較強,纖維較為通透,放大圖像能看清楚填料顆粒,纖維邊緣較亮;向試樣表面噴鍍金屬膜時,噴鍍時間為100 s,圖像受荷電效應和邊緣效應的影響較小,拍攝時操作也更簡便;延長噴鍍金屬膜時間至300 s,圖像亮度進一步增大,說明二次電子發(fā)射效率增大,但纖維看起來較厚重,填料顆粒能夠被清晰觀測到,這可能與噴鍍金屬過多,填料顆粒尺寸變大有關。

圖 4不同金屬膜噴鍍時間下紙張試樣的SEM形貌

由上述結果可知,向紙張表面噴鍍適量金屬可以增大二次電子的發(fā)射效率,提高圖像質(zhì)量;但噴鍍過多金屬,會存在過度美化圖像的問題。

使用高真空模式測試時,導電性不佳試樣的荷電效應影響不易被完全消除,并且對測試人員的操作技能要求較高。為消除荷電效應的影響,對于紙張類不導電試樣,可采用低真空模式進行測試。采用低真空模式測試時,試樣室真空度只有30 Pa,只能利用背散射電子成像的方式進行測試。由于背散射電子來自試樣表面更深處,能量較大,其出射方向幾乎不受試樣表面弱電場的影響,只有正對探測器的部分電子才能被收集。因此,為了獲得分辨率與清晰度均好的背散射電子圖像,實際操作時要選擇較高的電子束能量與較小的工作距離。

設置加速電壓為20 kV,束流為1 nA,工作距離為10 mm,不同拍攝模式下紙張試樣的SEM形貌如圖5所示。由圖5可知:采用高真空模式,二次電子成像時的圖像明顯變形,質(zhì)量差;采用高真空模式,背散射電子成像時,圖像存在異常亮、異常暗的區(qū)域,受荷電效應影響極大;采用低真空模式,背散射電子成像時,試樣室中會注入一定量的氮氣,氣體分子被高能電子束轟擊后發(fā)生電離,帶電離子在試樣表面會中和多余的電荷,圖像基本不受荷電效應的影響,且鑒于背散射電子對原子序數(shù)較敏感,圖像中可清楚分辨纖維與填料。

圖 5不同拍攝模式下紙張試樣的SEM形貌

由上述分析結果可知,當測試紙張類導電性差的試樣時,選擇低真空模式可避免荷電效應的影響,得到理想圖像,并且極大降低了對測試人員的操作要求。

在對紙張類不導電試樣進行SEM分析時,為減輕荷電效應的影響,增強試樣的導電性,設置加速電壓為15 kV,束流為100 pA,工作距離為20 mm,向試樣表面噴鍍適量金屬,采用低真空模式時可以得到立體感強的SEM圖像。



文章來源——材料與測試網(wǎng)

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